4.2 中国专利

4.2.1 专利申请趋势

从图1-4-8可以看出，1997—2014年近20年来，中国企业关于烧结钕铁硼中SC片厚度控制的专利申请量整体呈上升趋势，这是由于稀土价格特别是Tb和Dy重稀土价格的大幅度上涨，热压（热变形）钕铁硼磁体也受到了人们的重视。由于优异的性价比，钕铁硼磁体在过去20多年中得到了越来越广泛的应用，钕铁硼产业也随之不断壮大。进入21世纪以来，中国的钕铁硼产品性能和品质大幅度提升，装备水平与发达国家逐步接近，使得中国钕铁硼产业迅猛扩张。中国已成为全球最大的稀土永磁生产基地，正在成为越来越重要的应用市场。与此同时，中国稀土永磁的产量超过全球的4/5，成为全球最大的稀土永磁生产基地，同时也是重要的稀土永磁应用市场。随着时代的进步，稀土永磁需求量逐年上升，应用日益广泛，中国稀土永磁产业在全球的地位举足轻重，因而承担有较大的责任，企业既面临新机遇，又有新的挑战。

图1-4-8 烧结钕铁硼SC片厚度及晶相控制技术中国专利申请趋势

4.2.2 技术功效趋势

图1-4-9至图1-4-12反映了中国在钕铁硼烧结领域有关SC片厚度及晶相控制技术分支发展趋势，可以看出中国关于速凝铸片直接控制厚度均匀、均匀浇注及在晶相控制和通过抑制α-Fe而改善晶相的专利申请晚于日本，最早在1990年出现专利申请，当年仅申请1件，为有关改善钕铁硼晶相的专利，之后长达11年的时间只申请了1件关于SC片厚度控制的专利，这是因为中国此前还依赖于资源大国、稀土资源丰富，此阶段市场上仅大量提供原材料，产品多为初级加工的产物。2001年后这四个方面的技术才缓慢发展，从图1-4-9至图1-4-12中可以看到有关抑制α-Fe和均匀浇注的技术依然呈现缓慢发展但2013—2014年有所回升的趋势；其他两项技术2007年后发展比较快速，直接控制SC片厚度均匀的技术平稳且快速发展，而在SC片铸造阶段就关注产品晶相的专利申请更是在2014年达到一个较高峰值，这是因为随着钕铁硼磁体在市场上的应用越来越广泛，中国作为稀土资源大国，意识到市场上真正需要的是高附加值的产品，所以国内企业纷纷关注钕铁硼烧结磁体产品。从图1-4-9至图1-4-12中可以看出中国钕铁硼产业尚处于发展期，可以预判，未来几年中国在钕铁硼烧结技术方面将会出现更为强劲的发展势头。

图1-4-9 中国技术功效——厚度均匀专利申请量

图1-4-10 中国技术功效——抑制α-Fe专利申请量

图1-4-11 中国技术功效——晶相良好专利申请量

图1-4-12 中国技术功效——均匀浇注专利申请量

4.2.3 技术矩阵

图1-4-13为通过多种技术手段实现均匀浇注而达到厚度控制及直接控制厚度均匀、抑制α-Fe和直接改善晶相的矩阵，横向来看，直接实现厚度均匀的专利申请最多，而在SC片浇注阶段就改善晶相的专利数量次之，通过各种手段实现均匀浇注的专利数量最少；纵向来看，热点集中在辊轮转速的研究，加速辊轮冷却的次之，而有关浇注温度的专利申请很少。整体来看，通过合适的辊轮转速控制SC片厚度均匀的专利申请最多，可以看出此为对SC片厚度及晶相控制的研发热点；通过改变冷却速度而抑制α-Fe析出及通过调整喷嘴达到控制SC片厚度均匀的专利申请量非常少。

图1-4-13 烧结钕铁硼SC片厚度及晶相控制技术中国专利技术功效矩阵图

企业在借鉴通过辊轮转速控制SC片厚度及加速冷却等方面成熟技术的同时，可以适当对改善喷嘴、浇注温度、冷却速度方面研发进行突破，以期提升自己的竞争实力。