2013年中国法院10大知识产权案件

一、知识产权民事案件

1　湖南科力远新能源股份有限公司诉爱蓝天高新技术材料(大连)有限公司、湖南凯丰新能源有限公司侵犯发明专利权纠纷案——阅读提示:对于有明确端点数值范围的专利技术特征，如何确定其适用等同原则的范围?

【裁判要旨】

专利权利要求中有明确端点的数值范围是经过专利申请人进行概括选择之后所确定的范围。在专利申请阶段可能导致专利无法获得授权的过于宽泛的数值范围，既然其没有记载在授权后的权利要求范围内，如果通过等同特征的方式再将其纳入到专利权的保护范围，显然对于公众而言是不公平的。因此对于专利所要求保护的技术方案中有明确端点数值范围的技术特征，且属于对现有技术方案进行优化选择而形成的优选技术方案，其适用等同的范围应当受到严格限制。

【案号】

一审:湖南省长沙市中级人民法院(2008)长中民三初字第0501号

二审:湖南省高级人民法院(2010)湘高法民三终字第1号

再审:江苏省高级人民法院(2011)苏知民再终字第0001号

【案情与裁判】

原告(被上诉人、再审被申请人) :湖南科力远新能源股份有限公司(简称科力远公司)

被告(上诉人、再审人申请) :爱蓝天高新技术材料(大连)有限公司(简称爱蓝天大连公司)

被告:湖南凯丰新能源有限公司(简称凯丰公司)

起诉与答辩

科力远公司诉称:其合法拥有“一种海绵状泡沫镍的制备方法”发明专利权，爱蓝天大连公司未经许可，为生产经营目的长时间、大规模地使用涉案专利方法生产泡沫镍产品并在国内外大量销售，侵犯其发明专利权。凯丰公司未经许可，为生产经营目的，从爱蓝天大连公司处直接购买依照专利方法直接获得的产品并生产镍氢电池，亦侵犯其发明专利权。请求判令爱蓝天大连公司、凯丰公司立即停止侵权;爱蓝天大连公司赔偿其经济损失4990万元;爱蓝天大连公司、凯丰公司承担全部诉讼费用。

爱蓝天大连公司辩称:其已就涉案专利提出无效宣告请求，本案应予中止;其生产泡沫镍产品的方法未落入涉案发明专利权的保护范围;科力远公司要求赔偿4990万元无事实和法律依据。

凯丰公司答辩称:其能够提供所使用的泡沫镍产品的合法来源，且对该产品或生产该产品的方法是否侵权并不知情，不应承担赔偿责任。

一审审理查明

经受让，2007年6月1日科力远公司成为ZL95102640. 2号发明专利(以下简称涉案专利)的专利权人。涉案专利权利要求1的记载内容为:一种海绵状泡沫镍的制备方法，使用经过粗化的聚醚聚氨酯作基底，制作电镀用阴极;经镀镍、水洗干燥等后处理过程，制备出海绵状泡沫镍，所说的镀镍是在含镍离子的电镀液中进行，时间为40～50分钟;本发明的特征在于所说的制作电镀用阴极是用磁控溅射的方法进行的，在镀膜机中，以纯镍为靶，在氩气气氛中，控制电流密度在(0.1～1.5)×10－2A/cm2范围，控制溅射时间在20 ～100S，两电极间距离在10～30cm之间，溅射前先抽真空，真空度为(0.8～3.5)×10－5毫米汞柱，充入氩气后真空度在(2～3.5)×10－4毫米汞柱;通电后，在基底表面和孔隙内生长镍，形成含金属镍的电镀用阴极;所说的后处理是在800～900℃温度下保温1小时，烧掉聚醚聚氨酯基底。

1998年1月1日，国家专利局对涉案专利申请作出第一次审查意见通知书，1998年4月14日，专利申请人根据专利局的审查意见进行了答复。在专利申请人的意见陈述书中，引用的对比文献系审查意见通知书所列的对比文献，专利申请人对本发明的创造性进行了如下阐述:本发明跟对比文献比较，其创造性体现在如下几方面:首先是在诸多的泡沫金属化制作电镀阴极方法中，优选了最佳的磁控溅射的方法;其次是总结出了磁控溅射的工艺条件，最后是热处理方法。并称与对比文献相比，本发明权利要求的重点是电镀用阴极的制备方法，且电镀用阴极采用的磁控溅射法可以制成金属化的多孔平板形泡沫，也可以制成卷材。

2003年11月19日，爱蓝天大连公司成立，其经营范围为发泡镍制造、销售，新材料研发，技术咨询，售后服务，国际贸易，该公司的外资投资方为英可亚洲控股有限公司、韩国镍业公司。爱蓝天大连公司生产了海绵状泡沫镍产品，在其生产泡沫镍的PVD真空镀工序中，使用“IMG－1000型真空磁控溅射镀膜机”，使用的基材是聚酯聚氨酯软泡沫，如INOAC公司的MF －45LE型软泡沫，BRIDGESTONE公司的HHWR－46型软泡沫。对基材进行镀膜的真空磁控溅射镀膜机内基材两侧对称平行设置一对上下错位相向的镍靶，形状为长方形，镍靶长145cm，镍靶宽为25. 1cm，使用的靶材为纯镍，两镍靶上靶的上沿和下靶的下沿之间的垂直距离为850mm，两镍靶之间的垂直距离为25. 5cm，基材在上下胶辊间的距离为1570mm。镀膜电流为10～30A，镀膜速度为0. 4～0. 9m/min，本底真空度为≤2. 0×10－2Pa;工作真空度为(2. 0～2. 5)×10－1Pa。具体操作时的工艺参数为:基材厚度分别是1. 7mm、1. 71mm、1. 73mm，阴极镍靶镀膜电流分别为26A、25A，镀膜速度为0. 8m/min，起靶前真空度2. 0×10－2Pa，选择氩气气氛，工作真空度为2. 1×10－1Pa、2. 2×10－1Pa、2. 3×10－1Pa、2. 5×10－1Pa。镀膜后基材在电镀工序中完成镍的沉积，所得产品具有不同面密度。该工序预镀时间16分22秒53，主镀时间52分40秒。对电镀后产品经过水洗干燥后送至热处理工序进行处理。热处理工艺中，烧结焚烧炉长度是6. 7米，氧化处理温度为400～650℃，烧结还原炉长度是6. 0米，还原段炉温(820～950)±20℃，走速为25米/小时。

2007年至2008年间，凯丰公司从爱蓝天大连公司购进“英可泡沫镍”，并使用其生产电池。

爱蓝天大连公司2006年至2008年的财务报表记载:该公司2006年11月产品销售收入24762099. 21元、产品销售毛利4160736. 27元、产品销售利润2824475. 52元; 2006年12月产品销售收入15368228. 46元、产品销售毛利－799406. 68元，产品销售利润－2919588. 27元。2007年全年的产品销售收入347806114. 8元、产品销售毛利24903085. 82元、产品销售利润15043725. 96元。2008年1月至10月31日期间的产品销售收入189796804. 1元、产品销售毛利19746497. 8元、产品销售利润14865584. 75元。以上2006 年11月至2008年10月的产品销售收入共为577733246. 57元、产品销售毛利共为48010913. 21元、产品销售利润共为29814197. 96元，且从该公司的财务报表中可知，产品销售毛利系从产品销售收入中减去了产品销售成本后的余额，而产品销售利润系从产品销售毛利中扣除了销售费用、管理费用、财务费用后的余额。

诉讼中，科力远公司将涉案专利独立权利要求1拆分为以下14个技术特征: (1)一种海绵状泡沫镍的制备方法; (2)使用经过粗化的聚醚聚氨酯作基底; (3)在镀膜机中，使用磁控溅射方法，形成含金属镍的电镀用阴极; (4)该镀膜机中以纯镍为靶; (5)镀膜机内为氩气气氛; (6)电流密度在(0. 1～1. 5)×10－2A/cm2范围; (7)溅射时间在20～100S; (8)两电极间距离在10～30cm之间; (9) 9－1:溅射前抽真空至真空度(0. 8～3. 5)× 10－5毫米汞柱，9－2:充入氩气后真空度为(2～3. 5)×10－4毫米汞柱; (10)通电后，在基底表面和孔隙内生长镍; (11)将上述电镀用阴极在含镍离子的电镀液中镀镍; (12)镀镍时间为40～50分钟; (13)将镀镍所得产品水洗干燥; (14)后处理，即在800～900℃下保温1小时，烧掉聚醚聚氨酯基底。

一审判理和结果

湖南省长沙市中级人民法院认为: (一)科力远公司有权提起本案诉讼;本案无需追加当事人及委托技术鉴定;本案不应中止审理，也未超过诉讼时效。(二)拆分技术特征(1)“一种海绵状泡沫镍的制备方法”系该发明专利的技术名称，不应单独作为一个比对的技术特征;拆分特征(11)至(14)，即电镀工艺和热处理工艺，申请日前即已用于泡沫镍制造领域，非涉案专利对于现有技术的贡献，且与现有技术内容完全相同。因此，涉案专利的保护范围应该限定为权利要求1中进行基材导电化处理的真空磁控溅射工艺，即拆分特征(2)至(10)。(三)在拆分特征(2)至(10)中，特征(2)、(9)与涉案专利构成等同，其余与涉案专利相同，均落入了涉案专利的保护范围。(四)爱蓝天大连公司关于现有技术抗辩的主张不能成立。(五)爱蓝天大连公司财务数据中的“销售利润”29814197. 96元系“营业利润”，依法应将其认定为爱蓝天大连公司因侵权所获利益。一审法院于2009年9月29日作出判决:一、爱蓝天大连公司和凯丰公司立即停止侵犯科力远公司ZL95102640. 2号发明专利权的行为;二、爱蓝天大连公司赔偿科力远公司经济损失人民币29814197. 96元;三、驳回科力远公司的其他诉讼请求。案件受理费292100元，证据保全费5000元，共计297100元，由科力远公司负担59420元，爱蓝天大连公司负担237680元。

上诉与答辩

爱蓝天大连公司上诉称:一审法院认定事实不清，适用法律错误，且存在程序错误。请求依法改判或发回重审，驳回科力远公司的诉讼请求。

科力远公司答辩称:请求维持一审判决。

二审判理和结果

湖南省高级人民法院认为: (一)科力远公司是本案的适格诉讼主体;本案也需追加其他关联人为必要的共同诉讼当事人。(二)本案中，涉案专利权利要求1所记载的全部技术特征共计14项拆分特征。拆分特征第(11)－(13)项关于电镀及热处理的技术特征是完整的泡沫镍制备方法所必需的工艺流程，属于专利权利要求1的保护范围。拆分特征(1)虽是专利主题名称，但鉴于专利申请人将其写入权利要求1，且爱蓝天大连公司就该特征不相同提出了异议，也应予比对。(三)在14项拆分特征中，特征(2)、(9)、(12)、(14)与涉案专利构成等同，其余与涉案专利相同，均落入了涉案专利的保护范围。(四)爱蓝天大连公司关于现有技术抗辩的主张不能成立。(五)一审法院确定的赔偿数额适当。(六)本案无需委托技术鉴定及中止审理。据此，判决驳回上诉，维持原判。

申请再审理由与答辩

爱蓝天大连公司申请再审称: (一)在对技术特征2的比对过程中，二审判决的认定违反了“禁止反悔原则”和“捐献原则”。1.在涉案专利的审查过程中，针对第一次审查意见通知书的内容，专利申请人作出了相应意见陈述并为此修改了说明书，上述意见陈述及修改的内容充分表明，专利申请人明确涉案专利公开的工艺条件是针对聚醚聚氨酯的工艺条件，放弃了对采用其他聚合材料(包括聚酯聚氨酯)作为基底材料的技术方案，根据禁止反悔原则，不应再将聚酯聚氨酯作为基底材料的技术方案纳入涉案专利的保护范围。2.专利申请人明知可以采用其他聚合材料(包括聚酯聚氨酯)作为基底材料，且将其他聚合材料也罗列在说明书的情况下，仍坚持在权利要求书中明确将基底材料限定为聚醚聚氨酯，以上事实表明专利申请人实质向公众捐献了采用其他聚合材料(包括聚酯聚氨酯)作为基底材料的技术方案。根据捐献原则，也不应再将聚酯聚氨酯作为基底材料的技术方案纳入涉案专利的保护范围。(二)在对技术特征8的比对过程中，二审判决不仅偷换概念，而且错误地颠覆了物理学的基本常识。1.被控侵权技术使用的基片是绝缘体聚酯聚氨酯。二审判决将该绝缘体认定为可以导电的电极——阳极，颠覆了物理学的基本常识。2.在磁控溅射技术中，必须单独设置阳极，基片不可能作为阳极使用。3.被控侵权技术中阳极设置方式属于传统的冷模式，完全合理。4.二审判决错误地混淆了“两电极间距离”和“靶基距”两个概念。5.被控侵权技术使用的两电极间距离与技术特征8存在明显差异，不可能属于等同的技术特征。(三)在对技术特征9的比对过程中，二审判决将多个相差达一个数量级(10倍)的参数认定为等同的技术特征，明显滥用等同原则。1.从涉案专利的审查档案可知，本底真空度与工作真空度对于实现涉案专利的发明目的非常重要，该参数是经过反复实验才选择出来的，不能随便变更。因此对于这一技术特征的保护范围，应仅限于涉案专利选择的保护范围而不应超越这一范围。2.被控侵权技术使用的本底真空度与工作真空度相较于涉案专利，差异巨大，不属于等同的技术特征。(四)在对技术特征12的比对过程中，二审判决同样滥用等同原则。1.从涉案专利的审查档案可知，镀镍时间对于实现涉案专利的发明目的非常重要，该参数是经过反复实验才选择出来的，不能随便变更。因此对于这一技术特征的保护范围，应仅限于涉案专利选择的保护范围而不应超越这一范围。2.根据涉案专利的限定，该专利可容忍的最长镀镍时间与最短镀镍时间仅差10分钟，因此在被控侵权技术所使用的镀镍时间(68分钟)与涉案专利限定的最长镀镍时间(50分钟)相差达18分钟的情况下，不应再适用等同原则。(五)在对技术特征14的比对过程中，二审判决不仅存在明显的计算错误，而且比对对象错误，不可能得出正确结论。1.被控侵权技术中的保温时间应是0. 24小时、而非0. 3－0. 9小时，二审判决对此计算错误。2.从涉案专利技术特征14的限定内容来看，其仅为对基材进行焚烧的氧化步骤，并不包括还原步骤。二审判决却将被控侵权技术中的还原步骤与之相比较，显然比对对象错误。3.在被控侵权技术中，焚烧温度为400－650摄氏度、焚烧时间为0. 27小时，远远低于涉案专利技术特征14所限定的条件。请求: 1.撤销湖南省长沙市中级人民法院(2008)长中民三初字第0501号民事判决和湖南省高级人民法院(2010)湘高法民三终字第1号民事判决; 2.驳回科力远公司的全部诉讼请求; 3.由科力远公司承担一、二审诉讼费用。

科力远公司答辩称: (一)爱蓝天大连公司向再审法院提交的再审申请书的内容超出了其向最高人民法院申请再审的内容，建议再审法院在原再审申请书的基础上进行审查。否则应移送最高人民法院审理。(二)湖南省高级人民法院的二审判决认定事实清楚，适用法律正确，程序正当合法，爱蓝天大连公司的再审申请无事实和法律依据，应予驳回。

申请再审审理查明

再审法院确认二审法院审查的事实属实，另查明: 1.在涉案专利的授权程序中，专利申请人针对国家知识产权局专利局第一次审查意见通知书中有关该专利申请不具备创造性的审查意见，陈述称:“本发明跟对比文献比较，其创造性在如下几方面。首先是在诸多的泡沫金属化制作电镀阴极的方法中，优选了最佳的磁控溅射的方法;其次是总结出了磁控溅射的工艺条件，最后是热处理方法。……

2.不仅在优选磁控溅射的方法时投入了大量的艰苦劳动，而且在工艺条件的确定上也花费了许多心血。……同时，溅射电流、时间、气氛及压力、电极间距离是相互配合相互制约的，没有反复的实验，没有创造性的活动是很难甚至不可能得到一整套工艺条件的。”在此基础上，专利申请人将原权利要求1和涉及磁控溅射具体工艺参数的原权利要求2合并修改为新的权利要求1，以体现涉案专利的创造性。

3. 2011年6月29日，中国电池工业协会组织专家张善梅、杨裕生、陈洪渊、黄伯云、谭晓华、王敬忠、王金良召开论证会，并形成“关于ZL95102640.2专利技术与英可(现爱蓝天)技术比对的论证意见”。在该论证意见的技术比对部分有“(2)、英可(现爱蓝天)技术采用的工作真空度比‘ZL95102640. 2’专利要低近一个数量级，这是生产中考虑到成本因素，企业有可能在某些范围内调整，并不涉及创新。‘ZL95102640. 2’专利申请日前，这一真空度已被使用”的内容。

4. 2011年10月26日的再审庭审中，科力远公司陈述称:本底真空度在教科书中有记载。2012年3月14日的再审庭审中，科力远公司陈述称:爱蓝天大连公司对真空度的选择是在现有范围内作出的选择。科力远公司代理人在庭后提交的代理词中载有“……磁控溅射工艺在上世纪七十年代就已出现，至涉案专利申请日，该工艺已发展了二十余年……涉案专利对真空度的限定源自其实验室研究数据。而爱蓝天所采用的较低真空度，由于现有技术中已有明确教导，因此，属于本领域技术人员在面临工业化生产成本和效率时必然会进行的选择(第13－14页)”的内容。

5.为准确查明本案所涉技术事实，再审法院根据《最高人民法院关于民事诉讼证据的若干规定》第六十一条的规定，要求双方当事人提供专家辅助人参与诉讼，就涉案技术的专门性问题向法庭作出说明。同时，法庭也指定了专家辅助人出庭，协助法庭进行技术事实调查。在2011年10月26日的再审庭审中，科力远公司聘请的技术专家贺跃辉(中南大学教授、博士生导师)、谭晓华［理想能源(上海)有限公司技术总监、高级工程师］，爱蓝天大连公司聘请的技术专家吴锦雷(北京大学教授、博士生导师)，以及法庭指定的技术专家黄晓华(南京师范大学教授、博士生导师)、梅天庆(南京航空航天大学教授)、宋凤麟(南京大学副教授)等六人对本案再审争议焦点所涉及的技术问题进行了长达一天的深入论证。六位技术专家分别为来自物理电子学、粉末冶金、真空镀膜、稀土化学、纳米物理学、金属电沉积领域的高级研究人员。庭审过程中，各方技术专家基于各自的专业技术知识对于本案中所涉及的技术问题充分发表了各自的意见，有些争议的问题已达成或接近达成共识;而对于分歧较大、无法达成共识的问题，各方技术专家相互之间也进行了深入的讨论，各自都给出了相对明确的最终意见，并且当事人及专家一致同意由法庭作出最终认定和裁决。各方技术专家的主要观点归纳如下:

(1)关于基底的选择(技术特征2)

大部分专家认为基底温度的升高或降低取决于其能量的供应和基底材料本身的散热速率，涉案专利中降低溅射温度的效果实际上是由其所采用的设备或技术决定的，即由于采用了磁控溅射技术使得溅射过程中能量的供应有所降低，继而在基底材料散热性能接近的情况下，涉案专利相对于没有采用磁控溅射的传统工艺获得了降低溅射温度的有益效果。而在采用相同设备或技术例如同时使用磁控溅射的情况下，溅射过程中的能量供应相同，聚醚聚氨酯和聚酯聚氨酯的散热性能差别不大，此时，选用聚醚聚氨酯还是聚酯聚氨酯对溅射温度的降低没有实质影响。

个别专家认为理论上聚醚聚氨酯结构相对于聚酯聚氨酯更有利于散热，但其在实际中是否如此需要实验数据的支持。

(2)关于两电极间距离(技术特征8)

爱蓝天大连公司的专家认为专利权利要求中电极间距离在数据上与靶基距是相同的，但二者在科学概念上不同。被控侵权方案中的基底不能作为电极，其电极是另外设置的，因此被控侵权方案中的靶基距不是镍靶和基底之间的距离。

其他专家均认为聚氨酯材料本身不是电极，但其通过溅射形成镍金属膜后可以充当电极，并且爱蓝天大连公司专家所称的另外设置的电极实际上是辅助电极。根据爱蓝天大连公司在再审申诉状中所给出的示意图2－55可知，由于基底放置在主阳极上，并且厚度较小，因此，两极间距离可以按照镍靶与基底之间的靶基距来计算，二审的认定结论没有实质性错误。

(3)关于本底真空度和工作真空度(技术特征9)

除科力远公司专家外，其他各方专家均同意真空度相差一个数量级在数量上属于显著的差别，虽然最终都能够制备得到泡沫镍产品，但此本底真空度以及工作真空度上的差别必然会导致制备工艺条件的选择以及生产成本和生产效率方面存在明显差异。并且，部分专家还认为上述真空度差别对于金属镍在基底表面的沉积特征例如其结晶形式会产生影响，继而影响最终产品的质量。

但也有专家认为，虽然真空度不同会对溅射膜的结构产生一定影响，但是由于该溅射膜厚度非常小，而之后的电镀层相对要厚得多并且还要经过烧蚀处理，这会使得溅射膜的瑕疵对最终产品质量影响很小。

(4)关于电镀时间(技术特征12)

大部分专家认为，虽然电镀工艺的最终效果由多个工艺参数决定，但是在其他条件相同的情况下，电镀时间能够影响泡沫镍电镀的厚度，继而影响最终的面密度。

也有专家认为，虽然被控侵权的方案中电镀时间与涉案专利在数值上有一定的差异，但是不足以说明其对电镀层的质量一定产生实质影响。

(5)关于后处理步骤(技术特征14)

各方专家均认为，泡沫镍的后处理过程至少包括氧化和还原两个过程，而涉案专利中仅提到“800－900℃保温一小时”一个步骤，撰写上存在瑕疵。

在此基础上，部分专家认为涉案专利仅包括了一个步骤，而被控侵权方案涉及多个阶段，二者是完全不同的内容。

其他专家认为根据本领域一般的认识，涉案专利中800－900℃保温一小时应理解为包含了还原过程，但由于无法将被控侵权方案中的保温时间与涉案专利分阶段有效对比，因此没办法确定二者是否产生了基本相同的效果。

6.本院于2011年10月26日庭审后，向最高人民法院调取了爱蓝天大连公司向该院提交的再审申请书及该院所作的询问笔录。在爱蓝天大连公司向最高人民法院提交的再审申请书所附的“涉案专利技术特征和被控侵权技术特征认定比对一览表(部分争议较大技术特征)”中，涉及专利特征2、4、6－9、12、14。而在最高人民法院的询问笔录中，爱蓝天大连公司主张其有异议的是专利特征8、9、12、14，并陈述了相关理由。

申请再审判理和结果

根据《最高人民法院关于审理侵犯专利权纠纷案件应用法律若干问题的解释》第七条规定，专利侵权是指被诉侵权技术方案包含与某项专利权利要求记载的全部技术特征相同或者等同的技术特征。在专利侵权诉讼中，如果被控侵权的技术方案有一个或一个以上的技术特征与涉案专利要求保护的必要技术特征既不相同也不等同的，则不认为其构成专利侵权。而根据《最高人民法院关于审理专利纠纷案件适用法律问题的若干规定》第十七条规定，等同特征是指与所记载的技术特征以基本相同的手段，实现基本相同的功能，达到基本相同的效果，并且本领域的普通技术人员无需经过创造性劳动就能够联想到的特征。

对照上述规定，现有证据足以证明涉案被控侵权技术方案中的“本底真空度及工作真空度”技术特征与涉案专利权利要求记载的“本底真空度和工作真空度”必要技术特征既不相同也不等同，能够满足上述专利法司法解释所规定的专利侵权判定的相关要求，故被控侵权的技术方案未落入涉案专利权的保护范围，爱蓝天大连公司不构成专利侵权。具体理由分析如下:

首先，被控侵权技术方案中的本底真空度及工作真空度分别为2×10－2 Pa、(2. 0～2. 5)×10－1Pa，而涉案专利权利要求记载的本底真空度及工作真空度分别为(1. 1～4. 7)×10－3Pa、(2. 7～4. 7)×10－2Pa，两者相差一个数量级(10倍)，明显不相同。

其次，在本案所属技术领域中，真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等常被称为物理气相沉积技术，这是本领域中基本的薄膜制作技术。它们均要求沉积薄膜的空间要有一定的真空度。因此，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境是镀膜的必要条件，真空度大小在此类工艺过程中属于重要的工艺参数。具体言之:

对于本底真空度而言，其抽真空的目的是减少真空室中残余气体(甚至除去真空室壁和真空室中其他零件上可能存在的吸附气体)，从而减少沉积到基片上杂质含量，提高沉积薄膜的纯度。本底真空度越高，溅射薄膜的纯度越高，但另一方面，其对抽真空的动力源，设备的承压能力和密封性能等要求都有相应的提高，并且由于提高真空度需要耗费更长的时间，其生产效率可能也会有所降低。本案中，虽然均属高真空度范围，但本底真空度由涉案专利权利要求中的(1. 1～4. 7)×10－3Pa降低到2×10－2Pa，相差一个数量级(大约10倍左右)，相对于权利要求对本底真空度所限定的变化范围(即在10－3Pa数量级上由1. 1变化到4. 7，大约4倍的压力变化)，大约10倍的压力变化应属于明显差异。因此，一方面，在没有直接证据显示这样的变化不会引起真空室内杂质含量的变化进而影响溅射膜纯度的情况下，不应当认为在溅射膜纯度方面二者能够达到基本相同的效果;另一方面，涉案专利相对于被控侵权技术方案的压力变化达到10倍，必然会对抽真空动力源、设备的承压能力等提出更高的要求，并且需要更长的操作时间，因此，在这些方面也不能认定涉案专利与被控侵权技术方案达到了基本相同的效果。

对于工作真空度而言，其是在本底真空度的基础上通过充入氩气而获得的工作状态下的真空度数值。众所周知，磁控溅射的工作原理是:电子e在电场E作用下，在飞向基板过程中与氩原子发生碰撞，使其电离出Ar+和一个新的电子e，电子飞向基板，Ar+在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中中性的靶原子或分子则沉积在基板上形成薄膜。可见，氩气在此过程中除了充当惰性气体保护镍材料不被氧化以外，还充当重要的溅射原子参与磁控溅射过程。由于工作真空度大小关系到工作状态下真空室中存在氩气多少，这会影响电子和氩气碰撞形成电离的几率，进而影响溅射所需的氩离子的密度，影响溅射效率。也就是说，在一定范围内，工作真空度越低(如被控侵权技术方案中的工作真空度)，其中充入的氩气越多，相同条件下电子与氩气碰撞形成电离的几率越大，溅射的效率越高。本案中，工作真空度由专利权利要求中的(2. 7～4. 7)×10－2Pa (高真空度)降低到(2. 0～2. 5)×10－1Pa (中真空度)，相差一个数量级(大约10倍左右)，相对于权利要求对工作真空度所限定的变化范围(即在10－2Pa数量级上由2. 7变化到4. 7，大约2倍的压力变化)，大约10倍的压力变化应属于明显差异。因此，在没有直接的证据表明此大约10倍的压力变化不会影响溅射效率的情况下，不应认定涉案专利与被控侵权技术方案达到了基本相同的效果。

综上，由于本底真空度以及工作真空度的作用和/或效果在本案所涉及的磁控溅射过程中并不单一，并且各种作用和/或效果之间也会存在相互影响，例如本底真空度升高虽然能够提高溅射膜纯度，但相应的对抽真空能力以及设备承压能力等要求更高，而生产效率会有所降低，并且更重要的是无法对这些升高或降低进行定量比较。因此，在目前证据的基础上不能直接认定不同的本底真空度和工作真空度所产生的整体效果基本相同，也不宜简单地认定被控侵权技术方案的低真空度相对于权利要求的高真空度是变劣的技术方案。

再次，对于磁控溅射过程中所涉及的各种参数条件(包括电流密度、溅射时间、电极距离、本底真空度、工作真空度等)，虽然其都是现有技术中曾经提到过或者是从现有技术大范围中选择出的小范围，但是，这些工艺参数并不是孤立存在的，为了获得最终的期望溅射效果，通常需要结合具体操作条件，例如溅射基底的材质，磁控溅射装置的类型等，综合调整各个工艺参数，这样的工艺条件的选择是一个动态的过程，需要在设计人员精心计算的基础上进行大量的具体实验才能确定出合适的参数范围，并且这些参数范围都是配套使用的，例如对于被控侵权技术方案在使用聚酯聚氨酯作为基底的情况下，使用相应的较低的真空度;而涉案专利权利要求中则针对聚醚聚氨酯采用相对较高的真空度。因此，这些参数已经由现有技术中供所有人员参考选择的公开属性转变为专用于某种特定对象的专有属性。另外，从专利申请人在授权程序中所作的相关意见陈述内容及科力远公司代理人于庭后提交的代理词的相关内容来看，涉案专利的磁控溅射工艺条件均系专利申请人花费许多心血进行创造性活动，经过反复实验得出的能体现其创造性的发明内容，是专利申请人经过创造性劳动从现有工艺条件(即现有技术)中优选出的技术方案。而被控侵权技术方案中所采用的本底真空度和工作真空度则系本领域普通技术人员无需创造性劳动即可从现有技术中轻易得到的技术方案。因此不能轻易地以两者间可能存在简单联想来主张等同特征的适用。

最后，涉案专利权利要求中本底真空度和工作真空度是有明确端点的数值范围，与权利要求中其他具体的技术特征(例如聚醚聚氨酯特征)不同，有明确端点的数值范围是经过专利申请人进行了概括选择之后所确定的范围。一方面，根据专利法的原理，专利申请人在撰写权利要求保护范围的过程中会在客观条件的限制下以及在法律允许的情况下尽最大可能要求其保护范围，权利要求书中未经修改的数值范围是专利权人自主选择的结果，该数值范围以外的内容应当视为专利权人认为不能或不应得到专利保护的内容，因此，不应当将有明确端点的数值范围之外，并且与该范围差异明显的数值纳入到等同技术特征的范围内。另一方面，在专利的审查过程中，专利行政管理部门是在申请人撰写的包括端点明确数值范围的权利要求的基础上，认为其符合专利法及其实施细则的有关规定，从而授予其专利权的。如果申请人在专利申请时要求保护一个过于宽泛的数值范围，则可能由于此范围所限定的技术方案包括了与现有技术相同或相似的内容从而不具备新颖性、创造性而得不到授权，或者可能由于此范围的概括超出了说明书具体公开的范围从而得不到说明书的支持而不能获得授权。这些在申请阶段可能导致专利无法获得授权的过于宽泛的数值范围，既然其没有记载在授权后的权利要求范围内，但如果通过等同特征的方式再将其纳入到专利的保护范围内，显然对于公众而言是不公平的。因此，对于权利要求中端点明确的数值范围，其等同特征的范围应当相对狭窄，即应当严格控制等同原则的适用，尤其是与权利要求所限定范围差异明显的技术特征。正如前述，本案被控侵权方案中的本底真空度和工作真空度均系本领域普通技术人员无需创造性劳动即可从现有技术中轻易得到的技术方案、涉案专利的本底真空度和工作真空度的技术特征系专利申请人从现有技术方案中优选出来的技术方案，故不应再将专利申请人未写入权利要求的现有技术方案纳入到等同特征的范围内，以防止权利人不当侵占公众利益的空间。

综上所述，本案中因被控侵权技术方案中的“本底真空度以及工作真空度”技术特征与涉案专利权利要求记载的“本底真空度以及工作真空度”必要技术特征既不相同也不等同，因此被控侵权技术方案未落入涉案专利权的保护范围，爱蓝天大连公司使用该技术方案未侵犯科力远公司的涉案专利权。有鉴于此，对于双方当事人争议的其他技术特征是否相同或等同已无需再予理涉。同时，对于双方争议的技术特征2的技术比对是否应纳入本案审理范围问题，亦不再理涉。原审判决认定事实清楚，但适用法律不当，应予纠正。爱蓝天大连公司关于其不构成专利侵权的申请再审理由成立，应予支持。据此，判决:

一、撤销湖南省高级人民法院(2010)湘高法民三终字第1号民事判决及湖南省长沙市中级人民法院(2008)长中民三初字第0501号民事判决;

二、驳回科力远公司的诉讼请求。

【法官评述】

本案的争议核心及裁判价值体现为:对于专利所要求保护的技术方案中有明确端点数值范围的技术特征，应当如何确定其适用等同原则的范围。

专利制度的实质是一项技术发明人与社会公众(以国家为代表)之间的交易。其核心在于:技术发明人将其经过创造性劳动的智力成果公之于众，以丰富完善社会科学技术体系，避免不必要的重复性智力劳动，推动科学技术的进一步发展;而作为回报，国家则代表公众授予技术发明人就该创造性智力劳动成果在一定期限及一定范围内的专有性权利(即专利权)，以鼓励科技创新，促进技术的全面发展。其中，“一定范围”是指技术发明人自我要求保护的技术内容的范围，在专利法意义上则表现为权利要求所记载的技术特征。

因专利权本身具有财产属性，故技术发明人在向国家提出所要求保护的范围时，一般会有意识或无意识的将该范围尽可能的最大化。但出于对公众利益的保护，国家在法律制度设计方面又不允许技术发明人将不属于其创造性劳动的智力成果，尤其是将已成为社会科学技术体系组成部分的现有技术，纳入到专利权的保护范围。此外，技术发明的类型包括对现有技术方案进行优化选择而形成的优选技术方案，其基本要素仍为现有技术方案，只是因此种优化选择在技术上具有明显或意想不到的技术效果而被授予专利权。因此，对于因优化选择而形成的专利技术方案而言，准确划清其适用等同原则的范围和界限，尤显必要。

本案中，涉案专利的技术方案系对有关海绵状泡沫镍制造方法的现有技术进行优化选择而形成的专利技术方案。如前所述，专利所确定保护的技术特征系技术发明人自我主张的结果。理论上一般认为，技术发明人未写入权利要求的技术特征不能纳入专利权的保护内容，除非被控侵权技术方案中的相应技术特征明显属于等同特征。但是对于就现有技术进行优化选择而形成的专利技术方案而言，其适用等同的范围应当受到严格限制。不能将与专利技术特征存在显著差别的现有技术方案认定为等同特征。

同时，对于技术事实的查明，实践中较为常见的手段是采取司法技术鉴定，抑或进行专家咨询，但前者耗时较长且成本较高，后者则通常属于内部咨询意见，因专家不出庭接受质询，专家意见无法成为定案的依据。而本案在再审审理过程中，不仅双方当事人提交了专家诉讼辅助人，法庭也聘请了专家诉讼辅助人，各方专家共同出庭，协助法庭对涉案技术事实进行论证。本案出庭的6名专家诉讼辅助人，专业背景分别涉及物理电子学、纳米薄膜电子学、真空镀膜技术、化学、金属电沉积和金属腐蚀领域、物理学纳米喷射机理等多个学科。经过一天的庭审质证，出庭专家共讨论了5个有重大争议的技术特征是否构成相同或等同侵权的问题，专家分别从不同学科的角度发表了意见。最终，法庭在分析专家意见并查明技术事实的基础上，得出爱蓝天大连公司关于其不构成专利侵权的申请再审理由成立的裁判结论。值得称道的是，各方专家就技术事实发表的意见，经归纳后全部纳入再审判决书的事实查明部分，本案也因此成为知识产权司法领域中借助专家诉讼辅助人直接查明疑难复杂技术事实的经典案件。

编写人:江苏省高级人民法院知识产权审判庭　施国伟